ID PLACOSMETICS
ID REAL AFTER CARE MASK

Características:

Mascarilla facial hidratante de biocelulosa que repara y calma la piel sensibilizada después de tratamientos  dermatológicos. Hidrata y calma las irritaciones de la piel causadas por agresiones externas. Su fórmula enri quecida con Complejo RAC (Extracto de Semillas de Calabaza + Vitamina K3 + Extracto de Flores de Arnitana  Montana + Extracto de Semillas) y Houttuynia Cordata alivia y protege la piel, aportando hidratación a las  pieles secas e irritadas.

Beneficios:

– Hidratación

– Calma y repara

– Post tratamientos dermatológicos

– Alivia y protege

Modo de uso:

1. Tras la limpieza facial y el tónico, retirar uno de los films protectores de la mascarilla y ajustar la mascarilla en el rostro.

2. Retirar el segundo film.

3. Dejar actuar 7 minutos y retirar.

4. Masajear la esencia restante hasta su completa absorción.

Contenido: 25 grs.

Water, Glycerin, Methylpropanediol,PEG-450,Propanediol, Hydroxyacetophenone, Panthenol, Carbomer, Allantoin, PEG-40 Hydrogenated Castor Oil, Tromethamine, Butylene Glycol, Caprylyl Glycol, Hydrolyzed Jojoba Esters, Ethylhexylglycerin, 1,2-Hexanediol, Hydroxyethylcellulose, Pelargonium Graveolens Flower Oil, Disodium EDTA, Althaea Rosea Flower Extract, Sodium Nitrate, Chamaecyparis Obtusa Water, Citrus Grandis (Grapefruit) Peel Oil, Centella Asiatica Leaf Extract, Niacinamide, Xylitol, Cucurbita Pepo (Pumpkin) Seed Oil, Alcohol, Caprylic/Capric Triglyceride, Madecassoside, Hydrogenated Lecithin, Phenoxyethanol, Achillea Millefolium Extract, Arnica Montana Flower Extract, Artemisia Absinthium Extract, Gentiana Lutea Root Extract, Polyglyceryl-10 Diisostearate, Sea Whip Extract, Ceramide NP, Hyaluronic Acid, Althaea Officinalis Root Extract, Houttuynia Cordata Extract, Menadione, Potassium Sorbate, Hydrolyzed Hyaluronic Acid, Sodium Hyaluronate.